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首頁>>盛美半導體設備(上海)股份有限公司>>產品展示>>晶圓制造

  • Post-CMP清洗設備 參考價:面議

    盛美上海的Post-CMP設備用于制造高質量襯底化學機械研磨(CMP)工藝之后的清洗,有濕進干出(WIDO)和干進干出(DIDO)兩種配置。該清洗設備6英寸和8...
    型號: 廠商性質:經銷商所在地: 對比
    2023/8/12 7:33:071461

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